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日本MIKASA 旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)/刮涂機(jī)/曝光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)：日本MIKASA米卡薩 半導(dǎo)體設(shè)備 MS-B200 旋轉(zhuǎn)涂膜儀
產(chǎn)品品牌：MIKASA米卡薩顯影機(jī)
產(chǎn)品介紹：

日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)/刮涂機(jī)/曝光機(jī)Mikasa Co.， Ltd. 作為一家對(duì)社會(huì)有貢獻(xiàn)且值得信賴的公司，開發(fā)和銷售半導(dǎo)體制造設(shè)備、檢查和測(cè)量設(shè)備。 通過這一點(diǎn)，我們將努力保護(hù)環(huán)境和減少環(huán)境影響，以成為一家環(huán)保型公司為目標(biāo)，我們將做出以下努力。我們將努力保護(hù)地球環(huán)境、防止污染和保護(hù)環(huán)境，并不斷改進(jìn)我們的環(huán)境管理體系。
詳細(xì)介紹
日本MIKASA米卡薩自20世紀(jì)60年代以來，日本MIKASA米卡薩開發(fā)了各種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。 **制造商，累計(jì)交付超過 7500 臺(tái)。日本和國內(nèi)各類光刻膠行業(yè)指定品牌，致力于中國光刻膠事業(yè)發(fā)展。

日本MIKASA株式會(huì)社對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)：提供技術(shù)支持，安裝，培訓(xùn)！

MA-10B、MA-20、MA-60F、M-1S、M-2LF、日本MIKASA株式會(huì)社旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)：MS-B100、MS-B150、MS-B200、MS-B300、MS-B200（密封）、MS-B300（ 密封）日本MIKASA株式會(huì)社顯影刻蝕裝置：
日本MIKASA株式會(huì)社半導(dǎo)體光刻膠彩膠
AD-1200、AD-3000、ED-1200、ED-3000、ED-1200、M-1S、M2-LF
MA-10、MA-20、MA-60F、MS-B100、MS-B150、MS-B200
MS-B300、MS-B200密閉型、MS-B300密閉型、PC蓋子限位開關(guān)的追加加工
PD-1000、防飛濺罩、中部容器、主機(jī)上面覆蓋物、特氟龍涂層加工、拱架夾具
空氣驅(qū)動(dòng)式臺(tái)式



Mikasa Co.， Ltd.

總裁 Yasuhiro Asano 


PCB的常見問題

1.在*大樣品量下，可以使用多厚的基材？
至于厚度，每個(gè)型號(hào)的*大兼容板尺寸假設(shè)為 2 mm 左右。 如需厚度為 2 mm 或更大的電路板，請(qǐng)聯(lián)系我們。


2.是否可以將旋涂機(jī)應(yīng)用于硅晶片以外的物體？
我們?cè)诓Ａ?、膠片、鏡頭、光盤等方面都有良好的記錄。


3.關(guān)于電路板的定心方法。

由于樣品臺(tái)的制造使其與基板的尺寸相同，因此如果外部形狀匹配，則可以對(duì)中對(duì)于 MS-A100 以外的型號(hào)，可選擇對(duì)中夾具（對(duì)接）。


4.在旋涂過程中，我在繞過電路板背面時(shí)遇到問題。 有沒有對(duì)策？
它可以通過反沖洗來處理。 雖然它是一個(gè)可選機(jī)制，但 MS-B150、MS-B200 和 MS-B300 可以支持它。 請(qǐng)聯(lián)系我們了解詳情。


5.可以涂覆水溶性溶劑嗎？
還有與基材的粘附問題，因此請(qǐng)先與我們聯(lián)系。


6.在將光刻膠涂到基材上之前，需要做什么嗎？
● HMDS 處理：通用。 這是一種使晶片表面疏水的處理。
● 通過蝕刻去除氧化膜：這是用強(qiáng)酸在晶片上蝕刻氧化硅膜的過程。

● 準(zhǔn)分子處理：這是一種通過去除基板表面的有機(jī)物并利用短波長紫外線能量和產(chǎn)生的臭氧對(duì)表面進(jìn)行親水處理來提高玻璃基板表面附著力的處理。


樣品架（卡盤支架）

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旋轉(zhuǎn)塗佈機(jī) - SpinCoater -

成膜管理

■ MIKASA獨(dú)家的旋轉(zhuǎn)控制系統(tǒng)不但可以達(dá)到5,000rpm以上的高速旋轉(zhuǎn)，且旋轉(zhuǎn)數(shù)精度全實(shí)現(xiàn)了
±1rpm的高精度
■ 可任意設(shè)定旋轉(zhuǎn)數(shù)(0~5,000rpm)和到達(dá)旋轉(zhuǎn)數(shù)的時(shí)間(0.2sec~999.9sec)，因此可輕易地控制膜厚。
■ 可追加滴下裝置(MS-A150/MS-A200)

膜厚測(cè)量裝置

FILMETRICS製   F50

光刻劑

OFPR-800LB(東京應(yīng)化製)

基板尺寸

6 inch矽晶圓

目標(biāo)膜厚

1μm

膜厚分布

±0.6%



功能
 採用AC伺服電動(dòng)機(jī)
● 無刷式，不會(huì)造成無塵室汚染。
● 減少電動(dòng)機(jī)發(fā)熱，也減少因連續(xù)使用時(shí)的溫度上昇造成對(duì)膜厚再現(xiàn)性的影響。
● 電力消費(fèi)低，減低環(huán)境的負(fù)擔(dān)。
■ 擴(kuò)張程式功能
● *多有100階段程式、可記憶10種模式，更容易使用。
■ 所有機(jī)型皆標(biāo)準(zhǔn)配備數(shù)位式真空計(jì)
■ 方形基板等可設(shè)定停止時(shí)位置，超方便
■ **裝置機(jī)構(gòu)(真空壓及蓋子)
● 由於薄膜或晶圓容易破裂，而降低吸附壓力時(shí)，可以變更**裝置機(jī)構(gòu)（真空）的稼動(dòng)壓力。
標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型

規(guī)格

型號(hào)

MS-B100

MS-B150

基板尺寸

MAXΦ4inch(75×75mm)

MAXΦ6inch(100×100mm)

旋轉(zhuǎn)數(shù)

50~7,500rpm

50~7,000rpm

旋轉(zhuǎn)精度

±1rpm

±1rpm

蓋子

壓克力

壓克力

**裝置

蓋子

選配

選配

真空

○

○

滴下裝置

不可裝配

選配

使用真空源

-0.08~0.1MPa

-0.08~0.1MPa

電源

AC100~110V 50/60Hz 5A

AC100~110V 50/60Hz 5A

外形尺寸(mm)

260W×230H×330D

360W×302H×435D

 

 

外觀




型號(hào)

MS-B200

MS-B300

基板尺寸

MAXΦ8inch(150×150mm)

MAXΦ12inch(200×200mm)

旋轉(zhuǎn)數(shù)

50~5,000rpm

20~5,000rpm

旋轉(zhuǎn)精度

±1rpm

±1rpm

蓋子

PC

PC

**裝置

蓋子

○

○

真空

○

○

滴下裝置

選配

選配

使用真空源

-0.08~0.1MPa

-0.08~0.1MPa

電源

AC100~110V 50/60Hz 5A

AC200~240V 單相　5A

外形尺寸(mm)

503W×350H×580D

545W×381H×702D

 

 

外觀



MS-B200密閉型

特點(diǎn)

■ 可減低因旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流不穩(wěn)，均勻塗膜
■ EB光刻劑塗佈效果佳
■ 低沸點(diǎn)溶劑塗佈效果佳
■ 可減低光刻劑的使用量



MS-B300密閉型

特點(diǎn)
■ 可減低因旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流不穩(wěn)，均勻塗膜
■ EB光刻劑塗佈效果佳
■ 低沸點(diǎn)溶劑塗佈效果佳
■ 可減低光刻劑的使用量