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日立HITACHI紫外可見近紅外分光光度計(jì)
產(chǎn)品型號(hào)：日立UH4150蕪湖
產(chǎn)品品牌：HITACHI日立分析儀器
產(chǎn)品介紹：

日立（HITACHI），是來自日本的全球500強(qiáng)綜合跨國集團(tuán)，1979年便在北京成立了**家日資企業(yè)的事務(wù)所。日立在中國已經(jīng)發(fā)展成為擁有約150家公司的企業(yè)集團(tuán)。 事業(yè)領(lǐng)域涉及能源系統(tǒng)、保障人們**舒適出行的鐵路等交通系統(tǒng)，運(yùn)用大數(shù)據(jù)進(jìn)行**的信息系統(tǒng)，以及通過健康管理、診斷、醫(yī)療技術(shù)等提供健康生活的醫(yī)療保健等等。
詳細(xì)介紹

日立用**回應(yīng)社會(huì)所面臨的課題。日立 [1]在2015年度（2015年4月1日至2016年3月31日）的合并銷售額達(dá)到100,343億日元，員工約335,000名。日立作為社會(huì)**事業(yè)的全球領(lǐng)軍者，開展的業(yè)務(wù)涉及電力、能源、產(chǎn)業(yè)、流通、水、城市建設(shè)、金融、公共、醫(yī)療健康等領(lǐng)域，通過與客戶的協(xié)創(chuàng)提供上等解決方案。中國是日立*為重要的市場之一。
截止到2015年度末，日立集團(tuán)在中國擁有180家集團(tuán)企業(yè)，正式員工約47,800名，在中國市場的銷售額達(dá)到10, 555億日元，約占日立集團(tuán)全球總銷售額的10%。 [2]日立致力于通過“社會(huì)**事業(yè)”為中國的社會(huì)發(fā)展及產(chǎn)業(yè)升級(jí)做出積極貢獻(xiàn)。

本次開發(fā)的UH4150AD+（Advanced Spec Plus）是在延續(xù)了作為光學(xué)元件的光譜特性檢測設(shè)備UH4150 系列的基礎(chǔ)上，提升了其在近紅外區(qū)域光譜特性測量性能，成為在先端行業(yè)很流行的測量光學(xué)元件的理想設(shè)備。


切換檢測器波長時(shí)會(huì)產(chǎn)生小的信號(hào)差異,即使這樣UH4150也可實(shí)現(xiàn)高精度的測定。

        安裝在積分球上的多個(gè)檢測器可在紫外-可見-近紅外的波長范圍內(nèi)進(jìn)行測定。由于使用日立專業(yè)的積分球結(jié)構(gòu)技術(shù)和信號(hào)處理技術(shù)等，將檢測器切換時(shí)（信號(hào)水平的差異）吸光度值的變化降到*小。
 

探測器轉(zhuǎn)換波長
檢測器切換時(shí)附近波長測定數(shù)據(jù)例
（金納米棒的吸收光譜）


日立高性能的棱鏡-光柵雙單色器系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)低雜散光和低偏振。
        UH4150采用棱鏡-光柵（P-G）雙單色器的光學(xué)系統(tǒng)，秉承U-4100光學(xué)系統(tǒng)的特點(diǎn)。 棱鏡-光柵（P-G）系統(tǒng)與常見的光柵-光柵（G-G）系統(tǒng)相比,S和P偏振光強(qiáng)度沒有大的改變。即使對(duì)于低透過率和反射率的樣品，UH4150也可實(shí)現(xiàn)低噪音測定。


平行光束可實(shí)現(xiàn)反射光和散射光的**測定。
        入射角對(duì)固體樣品鏡面反射率的測定非常重要。對(duì)于會(huì)聚光束，由于入射角根據(jù)透鏡的焦距等因素會(huì)不同，因此，像導(dǎo)電多層膜和棱鏡等光學(xué)薄膜的模擬設(shè)計(jì)值將與實(shí)際測定值不同。
        但對(duì)于平行光束，相對(duì)于樣品入射角始終相同，實(shí)現(xiàn)了高精度鏡面反射率的測定。此外，平行光束可用于擴(kuò)散率（霧度）的評(píng)價(jià)和透鏡透過率的測定。

平行光束，會(huì)聚光束
鏡面反射率測定示例


可提供適合不同測定目的的多種檢測器。
        可使用八種不同材料、尺寸和形狀的積分球。*2*3

檢測器產(chǎn)品線

檢測器產(chǎn)品線


采用全新人體工學(xué)設(shè)計(jì)。
        改進(jìn)樣品室門，提升操作性。為了便于更換樣品和附件的操作，采用了符合人體工學(xué)的設(shè)計(jì)。


兼容多種U-4100附件。
        通用附件適用于兩種型號(hào)。U-4100型附件也可用在UH4150型*4由于附件可拆卸，適合更多的測定類型。


比U-4100型更高的樣品通量。
        在秉承U-4100型光學(xué)系統(tǒng)高性能的同時(shí)，UH4150提供更高通量的測定。之前型號(hào)的儀器在1 nm數(shù)據(jù)間隔下測定時(shí)，掃描速度必須是600 mm/min。UH4150型可在1,200 nm/min的掃描速度下以1 nm的間隔進(jìn)行測定，顯著縮短測定時(shí)間。*5   UH4150在約2分鐘內(nèi)可從240 nm測定到2,600 nm。對(duì)需要在紫外-可見-近紅外波長范圍內(nèi)測定的樣品，如太陽能反射材料，尤其有效。
1 nm的光譜數(shù)據(jù)的比較
 

掃描速度為600 nm/min的
太陽能反射材料的反射光譜

掃描速度為1,200 nm/min的
太陽能反射材料的反射光譜