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無(wú)錫技術(shù)對(duì)接?xùn)|京精密ACCRETECH拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào):PG3000RMX售前選型
產(chǎn)品品牌:ACCRETECH東京精密
產(chǎn)品介紹:

日本ACCRETECH東京精密公司,成立于1949年,ACCRETECH東京精密的特點(diǎn)是其**進(jìn)的精密測(cè)關(guān)于半導(dǎo)體制造工藝,在這里我將解釋半導(dǎo)體制造過(guò)程以及東京精密的產(chǎn)品如何參與其中。半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝,半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中的ACCRETECH產(chǎn)品。

詳細(xì)介紹

ACCRETECH東京精密MESSA技術(shù)對(duì)接拋光機(jī)PG3000RMX系列

特征

RM200/300 提供單單元解決方案,為 PG200/300 處理提供補(bǔ)充功能,可去除較薄晶圓上的保護(hù)膠帶并將晶圓應(yīng)用于切割框架。

在*臺(tái)機(jī)器上對(duì)晶圓進(jìn)行兩面的粗磨、精磨、拋光和清洗工藝。

無(wú)需在同*個(gè)卡盤臺(tái)上移動(dòng)晶圓即可完成所有工序。

**上*小的足跡。

環(huán)保 - 無(wú)需化學(xué)品即可減少地下破壞。

特征

高度穩(wěn)定的光路激光干涉儀

該測(cè)量機(jī)采用了東京精密的主要技術(shù)之*的基于光纖的激光干涉儀,并采用了新開發(fā)的高穩(wěn)定性光路激光干涉儀,分辨率為 0.31 nm。

該系統(tǒng)具有 42,000,000:1 的動(dòng)態(tài)范圍和分辨率。這意味著您可以在單條軌跡中評(píng)估寬范圍內(nèi)的輪廓輪廓以及隱藏的精細(xì)表面。

直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)(**)

直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)確保高精度和高速運(yùn)動(dòng)。

此外,低振動(dòng)確保在高倍率下更穩(wěn)定的測(cè)量。

在*次測(cè)量中分析粗糙度和輪廓

在提高測(cè)量效率的同時(shí)保持高精度。


大范圍

200 mm(水平方向)和 13 mm(垂直方向)的寬測(cè)量范圍

也可提供電動(dòng)傾斜裝置,可傾斜至 45°。(SURFCOM CREST-T)



關(guān)于半導(dǎo)體制造工藝,在這里我將解釋半導(dǎo)體制造過(guò)程以及東京精密的產(chǎn)品如何參與其中。半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝,半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中的ACCRETECH產(chǎn)品。



晶圓制造

ACCRETECH-TOKYO SEIMITSU 主要從事銷售:晶圓切片機(jī)等設(shè)備,將硅晶錠切割成稱為晶圓的硅襯底,并在其上進(jìn)行半導(dǎo)體加工;以及對(duì)晶片邊緣進(jìn)行倒角的晶片邊緣研磨機(jī)。


前端


半導(dǎo)體制造商 70% 以上的投資投入到半導(dǎo)體生產(chǎn)中必不可少的前端或晶圓加工。Tokyo Seimitsu 通過(guò)支持**測(cè)試和后端設(shè)備,并提供前端設(shè)備(如 CMP 等平面化晶圓表面的設(shè)備),在此過(guò)程中擁有久經(jīng)考驗(yàn)的經(jīng)驗(yàn)。


晶圓測(cè)試


在晶圓測(cè)試中,我們的探測(cè)機(jī)可對(duì)晶圓上各種器件的電氣特性進(jìn)行 100% 檢測(cè)。


后端


后端處理是指組裝和*終測(cè)試。ACCRETECH-TOKYO SEIMITSU 制造和銷售在單*設(shè)備中結(jié)合了******的晶圓厚度和損傷去除功能的拋光研磨機(jī),用于背面研磨工藝以拋光晶圓背面。我們亦從事晶圓切割機(jī)的制造及銷售,以將具有微觀電路圖案的晶圓切割成單個(gè)芯片。